1、设备采用自旋转方式，使用化学清洗剂、超声波、氮气及加热来清洗去除6英寸x 6英寸的光罩表面胶层。 2、经由信息系统，自动分配最佳清洗方式。 3、设备通过喷嘴自动喷洒不同清洗剂到旋转光罩表面来清洗光罩表面的不同脏污。 4、清洗剂供应模块可以精准控制分配清洗清剂用量，以更好的清洗干净光罩。 5、清洗腔体使用内外环结构强化排气，较小的内外环排气开口间距，较大的排气腔体气室，在同样的排气压力设定,利用较大的气室与较小的排气开口产生高速的气体流动, 此强化排气结构可避免酸气回沾造成污染。 6、设备腔体使用高强度耐化学药品腐蚀材料;

属于新研制产品，暂无运用案例;