技术内容
本课题组自主开发设计了一台半导体薄膜沉积设备（ICP-ALD系统）。该系统是在原子层沉积（ALD）技术的基础上，通过引入等离子体源，实现了薄膜材料沉积的高效化、精准化和功能化。项目研发历经多年，涵盖了广泛的基础理论研究、系统设计、关键技术攻关以及设备的实际 应用测试。该设备可以实现部分进口产品国产设备替代化。
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